“呼~”

脑海中缓了一会儿后，林晓便感觉自己的思维重新恢复了清晰。

这一次提高的大脑开发度还不到本来的十分之一，对他本身的负担并不大，只是稍微有一些头晕罢了，等了一会儿后，这种眩晕感便逐渐消退了。

此时此刻，他再次抬头看向周围的环境，便感到周围的一切仿佛都在他的把控之中，甚至他能够将整个房间直接建立成为了一个3D模型，然后放在自己的大脑中，并且甚至能够直接对这個模型进行改变。

此外，他甚至感觉自己现在能够轻松地对八位数数字进行质数分解。

同时，他感觉自己对于物理的理解似乎也更近了一步。

本来，他因为之前提出了多维场论，而从系统那里得到了一个【物理大师光环】，这个光环对他的加成还是很高的，这也是为什么他有自信对光刻机来动手。

而现在他物理学又提升到了5级，这让他更有信心将这个时间缩短了。

“甚至……EUV光刻机也不是什么问题，似乎X光刻机，也能行？”

林晓的脑海中忽然浮现出了这个想法。

X光刻机，指的便是用X光作为光源的光刻机。

X光的波长比极紫外光更短，能够更加容易地去生产先进制程芯片。

并且这种光刻机有一种优点，那就是它的光源是直接照射在芯片底上的。

这种曝光方式便叫做直写式。

而EUV光刻机的光源中，EUV光源是经过十几块镜片的各种折射，最后通过掩膜版上面的图案，以投影的方式在芯片上形成芯片的。

这也就是说，X光刻机不需要光掩膜版就能使用，同时它对透镜系统的要求很低，仅仅只对透镜表面光滑度有一点要求而已。

此外，EUV光源在经过十几次光学镜片的折射后，原有光源的能量也会大大遭到削弱，原来的100%，到最后能量可能只会剩下不到3%，这也是为什么对EUV光源的要求就是功率足够强，不然的话，华国也不可能在光源上实现不了突破，毕竟方法都知道，不可能造都造不出来。

而X光刻机就不同了，因为是直写式，不需要经过镜片折射，所以根本不用担心光源功率不足的问题，反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点，反倒会影响到最终的效果。

当然，X光优点很多，但同样也有缺点。

那就是相比较EUV光刻机来说，光刻效率比较低，在实现